12月18日消息，雖然在EUV光刻機(jī)上已經(jīng)出局，但日本依然是全球第二大光刻機(jī)供應(yīng)商，這幾年日本公司也在憋足勁開(kāi)發(fā)可替代EUV的光刻方案，他們選擇了NIL納米壓印技術(shù)路線。

此前日本佳能、尼康等公司有過(guò)這種技術(shù)展示，現(xiàn)在日本DNP公司（大日本印刷株式會(huì)社）也宣布開(kāi)發(fā)出了10nm的NIL納米壓印技術(shù)，可以將電路圖直接印在基板上，該技術(shù)可以用于1.4nm工藝的邏輯芯片曝光。

具體技術(shù)上，DNP的10nm納米壓印技術(shù)采用SADP自對(duì)準(zhǔn)雙重圖案技術(shù)，一次曝光+兩次圖案能夠制造成雙倍精度的芯片，可以滿足先進(jìn)工藝邏輯芯片的要求，而且功耗優(yōu)勢(shì)明顯，DNP公司稱其能耗只有當(dāng)前主流工藝的1/10左右。

該公司已經(jīng)研發(fā)NIL技術(shù)超過(guò)20年，目前的技術(shù)已經(jīng)可以部分替代EUV光刻，為芯片制造商提供另一種高精度工藝生產(chǎn)的選擇，現(xiàn)在已經(jīng)在跟硬件供應(yīng)商合作啟動(dòng)技術(shù)評(píng)估。

DNP公司預(yù)計(jì)在完成客戶驗(yàn)證，建立量產(chǎn)和供應(yīng)體系之后，預(yù)計(jì)2027年開(kāi)始量產(chǎn)出貨。