上海芯上微裝科技股份有限公司近日宣布，其自主研發的首臺350納米步進光刻機AST6200已順利完成出廠調試與驗收，即將交付客戶使用。這一成果標志著我國在高端半導體光刻設備領域取得新的技術突破，為國產半導體裝備的自主化進程注入新動力。
AST6200是芯上微裝針對功率器件、射頻芯片、光電子及Micro LED等應用場景開發的專用光刻設備。該設備采用全自主可控技術路線，從核心部件到軟件系統均實現國產化替代，有效提升了我國半導體裝備的供應鏈安全性。
在技術參數方面，AST6200搭載大數值孔徑投影物鏡系統，結合多模式照明與可變光瞳技術，可實現350納米的高分辨率成像，完全滿足當前主流化合物半導體芯片的光刻工藝需求。其套刻精度表現尤為突出：正面套刻精度達80納米，背面套刻精度達500納米，能夠確保多層圖形的精準對準，顯著提升芯片良率。
該設備的軟件控制系統同樣具備自主知識產權。芯上微裝研發團隊構建了從底層驅動到上層工藝管理的全棧式軟件架構，實現了設備運行的完全自主控制。這種軟硬件協同創新模式，為設備性能優化和工藝適配提供了靈活空間。
作為一家成立于2025年2月的創新型科技企業，芯上微裝專注于高端半導體裝備的研發與生產。目前公司已形成以晶圓級先進封裝光刻機、激光退火設備和前道晶圓缺陷檢測設備為核心的產品矩陣，AST6200的量產標志著其技術能力向更高端領域延伸。
業內專家指出，350納米光刻機雖不屬于最先進制程設備，但在功率半導體、特色工藝芯片等領域具有廣泛應用價值。芯上微裝此次突破不僅填補了國內相關技術空白，其自主可控的解決方案更為行業提供了新的選擇路徑。
