上海芯上微裝科技股份有限公司近日宣布，其自主研發的首臺350納米步進光刻機AST6200已順利完成出廠調試與驗收流程，并正式啟運交付客戶。這一成果標志著我國在高端半導體光刻設備領域取得又一重要技術突破，為國產半導體裝備向高端化、自主化發展樹立了新的里程碑。
AST6200光刻機是芯上微裝基于多年光學系統設計、精密運動控制及半導體工藝經驗積累，精心打造的高性能、高可靠性、全自主可控的步進式光刻設備。該設備專為功率半導體、射頻器件、光電子及Micro LED等先進制造場景設計，能夠滿足復雜工藝需求。
在核心性能方面，AST6200實現了多項技術突破。其高分辨率成像系統搭載大數值孔徑投影物鏡，結合多種照明模式與可變光瞳技術，可穩定輸出350納米級分辨率，完全滿足當前主流化合物半導體芯片的光刻工藝要求。設備配備的高精度對準系統支持正面套刻精度達80納米、背面套刻精度達500納米，有效保障多層圖形精準疊加，顯著提升器件良率。
為提升生產效率，AST6200采用多重優化設計。其高照度I-line光源（波長365納米）配合高速直線電機基底傳輸系統，可支持2至8英寸多種規格基片的快速切換。高速高精度運動臺系統最大加速度達1.5g，大幅縮短單批次處理時間，有效降低設備綜合擁有成本。這些設計使設備在保持高精度的同時，實現了產能的顯著提升。
該設備在工藝適應性方面表現突出。其兼容硅（Si）、碳化硅（SiC）、磷化銦（InP）、砷化鎵（GaAs）、藍寶石等多種材質基片，可處理平邊、雙平邊、Notch等不同形態基片。創新調焦調平系統采用多光斑、大角度入射設計，能夠精準測量透明、半透明、不透明及存在大高度差的基底表面。設備還支持背面對準模塊，可滿足鍵合片等復雜制程的精密對準需求。
在軟件系統方面，AST6200搭載芯上微裝自主研發的全棧式軟件控制系統，實現從底層驅動到上層工藝管理的完全自主可控。該系統不僅具備強大的工藝擴展能力，還支持遠程運維功能，為設備長期穩定運行提供技術保障。這一全棧國產生態的構建，標志著我國在半導體裝備核心軟件領域實現重要突破。
