上海芯上微裝科技股份有限公司在半導體設備領域取得重大進展，其自主研發的350納米步進光刻機AST6200已完成出廠調試與驗收，正式啟運交付客戶。這一成果標志著我國在高端半導體光刻設備領域實現關鍵技術突破，為國產裝備向高端化、自主化發展樹立了新的里程碑。

AST6200光刻機是芯上微裝基于多年光學系統設計、精密運動控制及半導體工藝經驗開發的成果。該設備采用全自主可控技術路線，專為功率器件、射頻芯片、光電子及Micro LED等先進制造場景設計，具備高性能與高可靠性特點。其核心性能指標包括：350納米分辨率成像能力，通過大數值孔徑投影物鏡與可變光瞳技術實現；套刻精度方面，正面套刻誤差控制在80納米以內，背面套刻誤差優于500納米，可滿足多層圖形精準對齊需求；生產效率方面，設備搭載高照度I-line光源（波長365納米）與高速直線電機基底傳輸系統，支持2至8英寸多種規格基片快速切換，運動臺系統最大加速度達1.5g，顯著提升單位時間產能。

在工藝適應性方面，AST6200展現出強兼容性。設備支持硅（Si）、碳化硅（SiC）、磷化銦（InP）、砷化鎵（GaAs）及藍寶石等多種材質基片加工，可處理平邊、雙平邊、Notch等不同形態基片。其創新調焦調平系統采用多光斑、大角度入射設計，能夠精準測量透明、半透明、不透明及大臺階基底表面形貌。設備可選配背面對準模塊，滿足鍵合片等復雜制程的背面對準需求。

軟件層面，AST6200搭載芯上微裝全棧自主研發的控制系統，覆蓋從底層驅動到上層工藝管理的完整鏈條。該系統不僅實現100%自主可控，更具備強大的工藝擴展能力與遠程運維功能，可快速響應不同應用場景的定制化需求。通過軟硬件協同優化，設備在降低擁有成本（COO）的同時，為國產半導體生態構建提供了關鍵技術支撐。